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RIE Plasma等離子去膠機
所屬分類：等離子去膠機
可有效去除表面殘留物、介質與介質間光阻去除
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產品詳情
RIE Plasma去膠機適用于碳化硅刻蝕、表面殘留物清除、氧化硅或氮化硅刻蝕等，腔體適用于4-8寸樣品。
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